目的采用磁共振雙反轉(zhuǎn)恢復(fù)序列（Double inversion recovery，DIR）聯(lián)合統(tǒng)計(jì)參數(shù)映射（Statistical parametric mapping，SPM）圖像分析法，研究常規(guī)磁共振（MRI）陰性顳葉癲癇（TLE）患者大腦灰質(zhì)體積變化情況。方法收集 2016 年 1 月–2018 年 12 月在復(fù)旦大學(xué)附屬中山醫(yī)院行常規(guī)頭顱 MRI 陰性并經(jīng)臨床確診為 TLE 的患者 24 例，及 24 例性別、年齡相匹配的健康對(duì)照者，使用 DIR 進(jìn)行全腦掃描，采用 SPM 法對(duì) DIR 序列采集的腦灰質(zhì)數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，比較兩組間的大腦灰質(zhì)體積差異。結(jié)果常規(guī) MRI 陰性 TLE 組較對(duì)照組于左側(cè)眶內(nèi)額上回、右側(cè)顳極、右側(cè)海馬旁回及右側(cè)舌回處灰質(zhì)密度減少，于右側(cè)內(nèi)側(cè)額上回處灰質(zhì)密度增加，二者存在統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（P<0 001="" cluster="">50）。根據(jù)腦電檢測(cè)結(jié)果，將 MRI 陰性 TLE 組分為單灶性和多灶性放電組，其中多灶性放電組較對(duì)照組于右側(cè)顳極、右側(cè)枕上回、右側(cè)海馬旁回和雙側(cè)眶內(nèi)額上回灰質(zhì)密度減少，于右側(cè)內(nèi)側(cè)額上回灰質(zhì)密度增加，差異具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（P<0 001="" cluster="">50）。單灶性放電組與對(duì)照組或多灶性放電組相比，均未見(jiàn)有明顯統(tǒng)計(jì)學(xué)差異的腦區(qū)。根據(jù)發(fā)作形式是否合并繼發(fā)性全面強(qiáng)直陣攣性發(fā)作（sGTCS），將 MRI 陰性 TLE 組分為 sGTCS 組和 non-sGTCS 組，sGTCS 組較 non-sGTCS 組于右側(cè)舌回、右側(cè)丘腦、左側(cè)枕中回、左側(cè)基底節(jié)和左側(cè)楔葉處灰質(zhì)密度均增加，差異具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（P<0 001="" cluster="">50）。結(jié)論常規(guī) MRI 陰性 TLE 患者存在顳葉及顳葉外腦灰質(zhì)體積改變，多灶性放電組及合并繼發(fā)性全面性發(fā)作患者更為顯著。